Промышленное оборудование для производства асептических наполнителей, топпингов в Бухаре

Промышленное оборудование для производства асептических наполнителей, топпингов конфитюра, мармелада, желе, варения, (Германия WALDNER, Голландия SELO).

Установка для варки содержит вертикальную емкость с рубашкой обогрева, средства загрузки и выгрузки продукта, рециркуляции сиропа и регулировки давления. Вакуумно выпарная техника приготовления.
Поставки комплексных линий от предварительной переработки плодов и ягод, производства варенья по типу классического «русского рецепта», повидла, конфитюра, мармелада, джема, соусов, до расфасовки: наполнения стеклянных и(ли) пластиковых банок, закрутки, этикеровки, автоклавирования (при необходимости), упаковки в картонные коробки.
Для приготовления применяется свежий или замороженный продукт.

Базовое предложение ценовое Вы получаете быстро и бесплатно.

Типичные стандартные одноемкостные установки:
Тип А: от 100 до 200 кг в партию
Тип Б: от 200 до 300 кг в партию
Указанные установки могут применяться для развития рецептур на крупных предприятиях.

Мы проводим также разработку нестандартного оборудования или установок для крупных партий продуктов, упаковочных линий требующие дополнительной оценки технологии и оборудования, например до 5.000 кг в партию.

Оборудование имеет высокую эффективность, малые потери и малое время для очистки:
Процесс варки одно- или многоступенчатый с провариванием и охлаждением продукта.
Оптимальное смешивание, обогрев паром, через двойную «рубашку» и(ли) прямой инъекцией пара, варка с вакуумом и без, возможности для конденсирования пара, возврата ароматическихвеществ, охлаждения с помощью двойной «рубашки», гомогенизатор, буферный котел для охлаждения и увеличения общей производительности, конденсатор и регулирование давления, возможность взятия проб, интегрированные системы очистки, стерильные условия, полный контроль над продуктом и управление с помощью датчиков и компьютора.

Все поверхности резервуаров изготовлены на автоматических сварочных агрегатах (Argon / Plasma) по требован